鋨鍍膜機(jī)HPC-20設(shè)備安裝及工作空間教導(dǎo)

發(fā)布時(shí)間：2024-12-12　點(diǎn)擊量：730

鋨鍍膜機(jī)HPC-20設(shè)備安裝及工作空間教導(dǎo)

鋨鍍膜機(jī)是一種將四氧化俄晶體升華的鋨氣體充滿(mǎn)腔室，使用等離子體電離鋨，并對(duì)樣品進(jìn)行鍍膜的裝置。鋨等離子鍍膜機(jī)具有優(yōu)異的包覆性，而且由于是非晶態(tài)，因此沒(méi)有顆粒狀，顆粒非常細(xì)小，使得在FE-SEM等電子顯微鏡觀察中可以進(jìn)行高清晰度、高倍率的觀察。

該裝置是一種用于電子顯微鏡觀察的鋨鍍膜裝置。配備觸摸屏和定序器控制，任何人都可以輕松地全自動(dòng)在樣品上進(jìn)行導(dǎo)電膜沉積。

用于 SEM 和 TEM 的鋨鍍膜設(shè)備。由于其細(xì)小的粒徑和出色的環(huán)繞特性，它對(duì)于高倍率觀察目的和復(fù)雜形狀的樣品非常有效。超薄 Os 導(dǎo)電涂層還使其適用于 EBSD 分析、俄歇分析和 X 射線分析。

采用空心陰極樣品臺(tái)，采用低壓放電進(jìn)行鍍膜，對(duì)樣品損傷小。由于空心陰極內(nèi)部會(huì)產(chǎn)生均勻的高密度等離子體，因此無(wú)論樣品的高度如何，放置在圓柱體內(nèi)部的樣品表面都會(huì)形成厚度均勻的Os膜。

由于僅將所需量的鋨氣體注入空心陰極，因此消耗較低，并且未反應(yīng)的氣體被活性炭捕集器吸附和去除，抑制了有害氣體釋放到大氣中。

該產(chǎn)品是一套裝置，包括裝置、旋轉(zhuǎn)泵、SUS 軟管、高密度活性炭捕集器和和光純藥的四氧化俄安瓿（0.5 g）。
需要親臨現(xiàn)場(chǎng)講解安裝和操作。
此外，該設(shè)備在處理鋨時(shí)需要定期維護(hù)。詳情請(qǐng)聯(lián)系我們。

HPC-20設(shè)備安裝尺寸及工作空間

在排列有各種設(shè)備的實(shí)驗(yàn)室和其他設(shè)施中，設(shè)備占用的面積有時(shí)會(huì)成為一個(gè)大問(wèn)題。因此，我們針對(duì)每種安裝情況編制了布局參考圖。
此外，在 HPC-20 的設(shè)備開(kāi)發(fā)階段，我們考慮了“可以放置物體的工作空間"的概念。工作時(shí)擁有平坦的表面非常方便。

安裝在桌子上并將泵放在背面時(shí)

裝置本體后面需要有泵和排氣管的安裝空間。

安裝尺寸
寬度：470mm，深度：350mm，泵安裝需要約250mm的空間。
桌面尺寸最好是深度600mm。

安裝在桌面上并將泵放在其旁邊時(shí)

設(shè)備后面安裝排氣管和電源線需要約 100 mm 的空間，設(shè)備旁邊安裝泵需要約 210 mm 的空間。

需要安裝尺寸
為寬680mm、深450mm的空間。泵可以安裝在設(shè)備的左側(cè)或右側(cè)。

安裝在桌面上并將泵放在地板上時(shí)

這是將安裝在桌面上的設(shè)備連接到安裝在地板上的旋轉(zhuǎn)泵的示例。
真空排氣管長(zhǎng)1m。由于它是柔性管，因此會(huì)因抽真空而收縮約10%。如果桌子高度為750mm或以上，排氣管可能無(wú)法到達(dá)，因此請(qǐng)?zhí)崆坝镁沓邫z查安裝高度。如果必須將旋轉(zhuǎn)泵放置在難以到達(dá)的位置，請(qǐng)安裝額外的排氣管。但由于降低排氣效率的影響，最大長(zhǎng)度被限制在2m。
如果桌子背面靠墻，則可以將旋轉(zhuǎn)泵放置在設(shè)備左側(cè)的地板上。
我們建議安裝主機(jī)的工作臺(tái)或桌子的高度在650mm至750mm之間。
旋轉(zhuǎn)泵的安裝空間約為210mm寬、350mm深。